SMC化學液用氣控閥 JLV係列

SMC最新推出的JLV係列化學液用氣控閥，通過結構設計的創新優化，顯著降低了閥門關閉過程中產生的衝擊，進而有效減少微塵生成。該閥體精選高純PFA材質，具備優異的耐化學腐蝕性能，可適應更高的工作壓力與背壓條件。在結構設計上兼顧緊湊性與空間節約
，適用於塗膠顯影、化學機械拋光（CMP）
、清洗工藝、濕法蝕刻以及藥液輸送等各類濕法工藝環節，尤其可滿足28nm及以下更高精尖製程對微粒控製的嚴苛要求。

典型應用場景包括蝕刻設備、CMP係統、塗膠顯影機及清洗裝置等。

其技術亮點主要包括：

微塵控製能力增強：通過對先導排氣結構的優化
，顯著削弱了閥門閉合時的衝擊效應。

材質抗化學腐蝕：高純PFA確保其在多種化學液環境中保持穩定。

結構緊湊：有效節約設備安裝空間。

高壓適應性提升：工作壓力與背壓範圍均實現擴展並實現共通化設計。工作壓力覆蓋0–0.5 MPa（較以往產品最大提升66%）

，背壓支持0–0.5 MPa（較前代產品最大提高150%）。